“하이NA EUV로 차세대 경쟁력 갖추자” ASML, 삼성전자와 R&D 협력 위해 한국 상륙
동탄2신도시에 R&D 지원 시설 신설하는 ASML’하이NA EUV’ 중심으로 협력 관계 구축 예정삼성전자, 2nm 이하 최첨단 공정 경쟁력 강화 기대 네덜란드의 반도체 장비 업체 ASML이 한국에 연구개발(R&D) 시설을 건립, 삼성전자와의 협력을 본격화한다. 삼성전자는 차후 ASML과 극자외선 노광장비(EUV) 부문 협력을 강화하며 본격적으로 2nm(나노미터) 미만 첨단 파운드리 공정 경쟁력을 갖춰나갈 예정이다. ASML, 화성시에 1조원 투자 경기도 화성시는 이달 4일 ASML이 차세대 극자외선 노광장비(High NA EUV, 이하 하이NA EUV)를 활용한 삼성전자의 초미세 반도체 제조 공정 R&D 지원 시설을 동탄2신도시 내에 건립한다고 밝혔다. ASML은 1조원을 들여 반도체 장비 부품 제조 센터와 엔지니어 트레이닝 센터를 조성할…