중국에 넘어간 삼성전자 반도체 기술, 피해 금액만 2조원 넘어
기술 유출 대가로 수백억원대 리베이트 정황도 포착, 檢 수사 확대
처벌 규정 있지만 실제 양형 기준은 미약, 국가 핵심기술 보호 시급

삼성전자 전 직원이 중국 기업과 접촉해 국내 반도체 기술을 유출한 정황이 드러났다. 해당 직원이 유출한 반도체 기술은 삼성전자가 수년간 천문학적인 연구개발 비용을 투자해 개발한 핵심 기술이다. 검찰은 이번 사건으로 삼성전자와 협력사가 입은 피해 금액이 약 2조3,000억원에 육박한다고 전했다. 국내 반도체 업계에 ‘산업스파이’들이 기승을 부리는 가운데, 일각에선 이들에 대한 처벌이 가벼워 관련 범죄가 잇따른다는 지적이 나오고 있다.

前 삼성전자 직원, 中 반도체 업체에 핵심기술 팔아넘겨

15일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부는 전 삼성전자 부장 김씨와 삼성전자 관계사 직원인 방씨가 수백억원대 금품을 수수한 정황을 확보했다고 밝혔다. 이들은 중국의 신생 반도체 업체인 ‘창신메모리’에 삼성전자의 18나노급 D램 핵심 기술 및 반도체 증착 기술을 넘긴 혐의를 받고 있다. 검찰 측은 김씨와 방씨 외에도 하청업체 출신 인력 등 실무자들이 기술 유출에 가담했을 것으로 보고 공범 수사를 이어 나가는 상태다.

검찰은 김씨가 지난 2016년 삼성전자에서 퇴직한 이후 중국 업체로 이직하면서 반도체 기술을 유출했다고 보고 있다. 김씨가 유출한 D램 기술은 PC와 서버·스마트폰 등에 쓰이는 반도체로 연산처리, 메모리 저장 등 고급 연산이 가능해 고성능 전자기기의 중요한 부품 중 하나로 평가되며, 반도체 증착 기술은 반도체를 얼마나 소형화할 수 있느냐를 결정하는 초고급 기술이다.

검찰 측 관계자는 "이번 기술 유출로 삼성전자가 받은 피해는 약 2조3,000억원에 달할 것"이라며 "나노급 D램을 양산하는 기술 자체가 개발하는 데만 수년이 걸리는 어려운 기술이기 때문"이라고 밝혔다. 한 반도체 업계 관계자는 “세계 D램 시장에서 삼성전자의 매출 점유율은 40%에 육박한다”며 “만일 창신 메모리가 동종 D램 공급을 확대하면 삼성전자의 시장 점유율이 떨어지면서 피해가 더 커질 수 있다“고 전했다.

비일비재한 해외 기술 유출

삼성전자의 핵심 기술을 해외로 유출한 사례는 이뿐만이 아니다. 지난해 1월 삼성전자의 전직 엔지니어인 최씨는 회사 내부 시스템을 통해 파운드리 반도체 공정 기술 관련 자료 등 총 33개의 영업비밀 파일 링크의 중요 내용을 촬영해 기술 유출을 시도했다. 이후 삼성전자 정보보호부서의 모니터링 과정에서 기술 유출 혐의가 발각됐고, 검찰이 최씨의 개인 이메일 등에 대한 디지털 포렌식을 거친 결과 혐의가 인정됐다. 최씨는 지난 7월 항소심에서 징역 1년 6개월과 벌금 1,000만원을 선고받았다.

지난해 3월에는 삼성전자의 전직 연구원인 이씨가 외국 소재 반도체 관련 업체에 이직할 목적으로 'D램 반도체 적층조립기술' 등 국가 핵심기술 13건과 영업비밀 120건을 유출한 사례도 있었다. 당시 이씨는 가족들의 미국 영주권 취득을 목적으로 애플과 구글, SK하이닉스 미주법인 등에 이직하기 위해 이력서를 제출하고 면접을 준비했던 것으로 밝혀졌다.

중국 지방정부까지 나선 기술 빼돌리기, 처벌 미약한 탓

심지어 지난 6월에는 중국에 삼성 반도체 공장을 그대로 복제하려는 시도가 발각되기도 했다. 삼성전자 상무 출신이자 국내 반도체 분야 최고 전문가인 A씨는 지난 2015년 싱가포르에 반도체 제조업체인 B사를 설립하고 대만, 중국 청두시로부터 대규모 투자를 받았다. 이후 A씨는 삼성전자, SK하이닉스 등에서 국내 굴지의 반도체 핵심 인력 200여 명을 섭외해 삼성전자 반도체 공장 설계자료를 그대로 적용한 중국 반도체 공장을 설립하고자 했다. 당시 삼성전자 출신인 C씨는 퇴사 시 불법으로 소지한 반도체 공장 BED(불순물이 존재하지 않는 최적의 환경을 만들기 위한 기술) 자료를 A씨에 넘겼으며, 삼성전자 시안 반도체 공장의 협력사 직원인 D씨는 공장 설계 도면을 제공하기도 했다.

검찰 측은 해당 사건의 수사 내역과 공판 진행 상황을 공개하며 삼성전자가 ▲BED 기술 개발 비용 최소 124억원 ▲최적의 공정 배치도 도출 비용 최소 1,360억원 ▲설계도면 작성 비용 최소 1,428억원 등 최소 3,000억원의 피해를 받았다고 밝혔다. 이어 해당 기술이 30년 넘는 기간 시행착오와 연구개발을 통해 얻은 삼성전자의 영업기밀인 만큼 최대 수조원 상당의 가치가 있을 것이라고도 덧붙였다.

그러나 A씨의 변호인은 “기술 유출 사건에서는 피해회사 특정이 가장 중요하다”며 “피해회사는 중국회사고, 부정사용 행위자도 대만 및 중국인데 정작 한국 검찰이 피해를 호소하고 있다. 공소사실 전체를 모두 변경할 필요가 있다”고 강조했다. 이어 “삼성의 자산을 ‘국가 핵심기술’이라고 말하는 것부터가 잘못”이라며 “검찰이 사건을 조작하고 부풀리는 것 같다”고 비난했다. 이에 검찰은 불쾌감을 표출했다. 검찰 측은 “변호인은 지금 검찰이 대기업과 손을 잡고 기소한 것처럼 약자를 억압한 프레임을 짜고 있다”며 “이 사건의 쟁점은 설계도면의 절도가 아닌 '기술 유출'이다. 이로 인해 한국과 중국의 반도체 기술 격차는 5년으로 당겨져 향후 우리나라 반도체 업계에 악영향을 미치게 됐다”고 지적했다.

문제는 산업스파이의 중국발 기술 유출이 도를 넘어서고 있음에도 처벌이 미약하다는 점이다. '대검찰청 기술 유출 범죄 양형기준에 관한 연구 보고서'에 따르면 지난 2015년 1월부터 올해 1월까지 기술 유출 관련 범죄로 1심에서 징역형을 선고받은 365명 중 집행유예로 풀려난 사람은 292명으로 무려 80%에 달했으며, 실형을 산 사람은 20%(73명)에 그쳤다. 현행 산업기술보호법에 산업기술을 해외로 유출할 경우 15년 이하 징역 또는 15억원 이하의 벌금에 처하도록 규정돼 있음에도 실제 선고되는 양형은 극히 낮은 셈이다.

기술 패권 경쟁 시대에 있어서 반도체는 국가 경쟁력과 국민 경제의 발전에 중대한 영향을 미치는 국가 핵심기술이다. 때문에 반도체 기술을 해외로 유출하는 건 단순 범죄에서 그치는 것이 아니라 국가 경제 성장 동력을 상실시키는 정도의 여파를 불러올 수 있다. 정부가 국가 핵심기술 유출 행위에 적용되는 양형 기준 상향, 기술 유출 방지를 위한 국가적 대응 전략 등 '보호망 구축'에 나서야 하는 이유다.